实验室用管式硫化物CVD系统

前端配有可加热到0-1000℃的蒸发管式炉，辅助固体源蒸发；后端为双温区硫化管式炉，温度控制精确，操作简便。左端配有法兰支撑架可将预热炉和硫化炉分开使用。右端可配气氛微调装置，可以准确的反应腔体内部的气体压力，带刻度的调节阀对于做低压CVD非常实用，重复性好；真空机组装有真空粉尘过滤器以保护机械式真空泵不被硫粉尘损坏。实验室用管式硫化物化学气相沉积（CVD）系统适用于在1100℃以下的工艺温度稳定气相沉积二硫化钼等二维化合物材料。

设备组成

该实验室用管式硫化物CVD系统设备有TF50-1100蒸发加热炉，TF50-12双温区管式炉组成。具有精确的温度控制和操作简便性

系统组成

1、前端蒸发管式炉：可加热到0-1000℃，用于辅助固体源的蒸发。

2、后端双温区硫化管式炉：温度控制精确，操作简便。

3、左端法兰支撑架：用于将预热炉和硫化炉分开使用。

4、右端气氛微调装置：用于准确调节反应腔体内部的气体压力，配备带刻度的调节阀，对于低压CVD非常实用，具有良好的重复性。

5、真空机组：配备真空粉尘过滤器，以保护机械式真空泵不受硫粉尘损坏。

设备应用：

该实验室用管式硫化物CVD系统在实验室中可用于稳定地进行气相沉积工艺，以生长二硫化钼等二维化合物材料。它具有精确的温度控制和操作简便性，适用于研究和制备相关硫化物材料。

主要技术参数

名称：蒸发加热炉

型号：TF50-10

工作温度：室温-1000℃

设计温度：1050℃

温区长度：150mm 

加热元件：电阻丝

控温精度：±1℃

升温速率：30℃/min

推荐升温速率：10℃/min

控温方式：智能化30段可编程控制

工作电压：AC220 V

额定功率：1000W

技术参数：

名称：双温区硫化炉 

型号：TF50-12

额定功率：3KW

额定电压：AC220v  50/60 Hz

设计温度：1200℃（1 hour）

工作温度：1100℃

升温速率：≤50（℃/min）

炉管尺寸：高纯石英管Φ50×1500mm

加热区长度：150/300mm

恒温区长度：100/120mm  

加热元件：电阻丝

控温精度(℃)：±1

控温方式：模糊PID控制和自整定调节，智能化30段可编程控制，具有超温和断偶报警功能

配件：配真空粉尘过滤器，DN25手动蝶阀用于控制炉管内压力，防腐型数显真空计，三路混气系统（可选）

可用于高校实验室、科研院所、工矿企业做粉末焙烧、陶瓷烧结、高温实验、化学分析、材料处理、电子、陶瓷、玻璃、塑料、晶石、宝石、钢材、贵金属、冶金、化工、机械、耐火材料、新材料开发、特种材料、材料质量检测之用。

可根据用户需要设计制造特殊规格产品。

实验室用管式硫化物CVD系统是由实验室用管式硫化物CVD系统厂家洛阳实验电炉生产的1100℃实验室用管式硫化物CVD系统。